Deposition of hydrocarbon thin films in plasma and study of their properties
Tenké vrstvy mají široké uplatnění v celé řadě odvětví jako např. v optických komponentech, integrovaných obvodech či jako biomedicínské povlaky. Jednou z metod přípravy tenkých vrstev je plazmochemická depozice z plynné fáze. Cílem této práce bylo prozkoumat vlastnosti nového reaktoru zamýšleného p...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Angličtina |
| Vydáno: |
2010
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/13715/prif_d/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad - F | K-12648 | 3145350323 |