Srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev
Tato práce je zaměřena na srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev. Pro měření byly konkrétně vybrány kvalitní vrstvy SiO2 na Si. Po měření na elipsometru a spektrofotometru následovala vyhodnoce...
Uloženo v:
Hlavní autor: | |
---|---|
Další autoři: | |
Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
Jazyk: | Čeština |
Vydáno: |
2006.
|
Témata: | |
On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/106076/prif_b/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
---|---|---|---|---|---|---|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad | K-10131 | 3145331333 |