Srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev
Tato práce je zaměřena na srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev. Pro měření byly konkrétně vybrány kvalitní vrstvy SiO2 na Si. Po měření na elipsometru a spektrofotometru následovala vyhodnoce...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2006.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/106076/prif_b/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad | K-10131 | 3145331333 |