Deposition of hydrocarbon thin films in plasma and study of their properties - Valtr, Miroslav, 1979- (2010)
Tenké vrstvy mají široké uplatnění v celé řadě odvětví jako např. v optických komponentech, integrovaných obvodech či jako biomedicínské povlaky. Jednou z metod přípravy tenkých vrstev je plazmochemická depozice z plynné fáze. Cílem této práce bylo prozkoumat vlastnosti nového reaktoru zamýšleného pro studium homogenity plazmatu v závislosti na poloze v reaktoru. Za tímto účelem byly nadeponovány série vrstev pro různé depoziční podmínky. Tenké vrstvy byly nadeponovány ve směsi argon-acetylen v radiofrekvenčním pulzním výboji. Kromě běžných parametrů výboje jako je depoziční čas, dodávaný výkon nebo průtok plynů, se zkoumal i vliv parametrů spojených s pulzním režimem, tj. frekvence cyklů a střída. Substráty z monokrystalického křemíku byly umístěny na skleněném držáku uprostřed válcového, horizontálně orientovaného reaktoru. Nadeponované tenké vrstvy byly studovány zejména pomocí spektroskopické elipsometrie a mikroskopie atomárních sil. Disperzní model vrstev byl založen na parametri