Depozice tenkých vrstev ve výbojích za atmosférického tlaku I.
V předložené práci studuji dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a růst tenkých vrstev v těchto výbojích ze směsi organosilikonu (hexametyldisiloxan) s dusíkem a N2O. Zaměřil jsem se zejména na difúzní formy bariérových výbojů. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výb...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2008.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175867/prif_b/ |
| Shrnutí: | V předložené práci studuji dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a růst tenkých vrstev v těchto výbojích ze směsi organosilikonu (hexametyldisiloxan) s dusíkem a N2O. Zaměřil jsem se zejména na difúzní formy bariérových výbojů. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výbojového plazmatu a charakterizaci připravených vrstev pomocí dostupných metod (např. mikroskopie atomových sil AFM, hloubkově rozlišené indentační měření atd.). Studoval jsem vliv teploty a oxidační látky N2O na vlastnosti vrstev. In the present work I studied atmospheric pressure glow discharge and the deposition of thin organosilicon films in N2 + N2O atmosphere. I performed basic electric diagnosis of plasma and the deposited films were characterised by atomic force microscopy, depth sensing indentation, etc. I studied the effects of temperature and ammount of N2O on the film properties. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: David Trunec. |
| Fyzický popis: | 25 l. : il. |