Srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev
Tato práce je zaměřena na srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev. Pro měření byly konkrétně vybrány kvalitní vrstvy SiO2 na Si. Po měření na elipsometru a spektrofotometru následovala vyhodnoce...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2006.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/106076/prif_b/ |
| Shrnutí: | Tato práce je zaměřena na srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev. Pro měření byly konkrétně vybrány kvalitní vrstvy SiO2 na Si. Po měření na elipsometru a spektrofotometru následovala vyhodnocení naměřených dat. Výsledky zpracování, které následují po popisu metod určení optických parametrů, jsou znázorněny jak v grafech, tak i v tabulkách. V těchto výsledcích jsou určité rozdíly, jenž závisí na metodě analýzy. V případě zpracování dat pomocí výpočetní techniky jsou tyto rozdíly minimální, což poukazuje na spolehlivost elipsometrie a reflektometrie při optické analýze kvalitních vrstev. This work is focused on comparison of spectroscopic ellipsometry with spectroscopic reflectometry on determination the values of thicknesses and optical constants of choice thin films. For the measurement were chosen quality layers SiO2 upon Si concretely. After the measurement on ellipsometer and spectrofotometer followed evaluation of measuring data. The results of the evaluation, which succeed to description of the methods that enable us to determine the optical parameters, are represented in the graphs and the tables. There are express diferences in these results, which depend on the method of the analysis. These results are minimal in the case of data processing by means of computer equipment, which advert to reliability of ellipsometry and reflectometry in the optical analysis of the quality layers. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Ivan Ohlídal. |
| Fyzický popis: | 48 l. |
| Bibliografie: | Bibliografie na s. 48. |