Srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev - Šamořil, Tomáš (2006)
Tato práce je zaměřena na srovnání spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie při určování hodnot tlouštěk a optických konstant vybraných tenkých vrstev. Pro měření byly konkrétně vybrány kvalitní vrstvy SiO2 na Si. Po měření na elipsometru a spektrofotometru následovala vyhodnocení naměřených dat. Výsledky zpracování, které následují po popisu metod určení optických parametrů, jsou znázorněny jak v grafech, tak i v tabulkách. V těchto výsledcích jsou určité rozdíly, jenž závisí na metodě analýzy. V případě zpracování dat pomocí výpočetní techniky jsou tyto rozdíly minimální, což poukazuje na spolehlivost elipsometrie a reflektometrie při optické analýze kvalitních vrstev.