Depozice dusíkem dopovaných organosilikonových tenkých vrstev pomocí plazmatu radiofrekvenčního doutnavého výboje /
Práce se zabývá přípravou a následnou analýzou tenkých vrstev. Organosilikonové vrstvy byly připraveny pomocí plazmatem asistované depozice z plynné fáze za použití kapacitně vázaného radiofrekvenčního výboje. Vrstvy se deponovaly v atmosféře složené z hexamethyldisiloxanu a dusíku. Po depozici byly...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2018
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/enkmj/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční |
Přírodovědecká fakulta | ÚK volný výběr - M | K-F-2018-PŘIB | 3145373087 |