Depozice dusíkem dopovaných organosilikonových tenkých vrstev pomocí plazmatu radiofrekvenčního doutnavého výboje - Přibyl, Roman; Buršíková, Vilma, 1960-; Masarykova univerzita. Ústav fyzikální elektroniky (2018)
Práce se zabývá přípravou a následnou analýzou tenkých vrstev. Organosilikonové vrstvy byly připraveny pomocí plazmatem asistované depozice z plynné fáze za použití kapacitně vázaného radiofrekvenčního výboje. Vrstvy se deponovaly v atmosféře složené z hexamethyldisiloxanu a dusíku. Po depozici byly vrstvy vystaveny laboratorním podmínkám, při kterých byla studována jejich stabilita. Mechanická stabilita vrstev v laboratorních podmínkách byla studována pomocí mikroindentačních metod, které umožnily popsat změnu mechanických vlastností způsobených pronikáním vlhkosti do vrstev. Změny mechanických vlastností byly dále porovnávány s chemickými změnami ve vrstvách. V práci je diskutována souvislost mezi změnami mechanických vlastností a chemické struktury připravených tenkých vrstev.
This study is focused on preparation and analysis of thin films. Organosilicon films were prepared by means of plasma enhanced chemical vapor deposition using capacitively coupled RF glow discharges. Thin films were deposited in mixture of hexamethyldisiloxane (HMDSO) and nitrogen. After the deposition the films were exposed to the laboratory environment and their environmental stability was studied. The environmental stability was mainly studied by microindentation techniques, which enabled us to evaluate the changes in the mechanical properties caused by water uptake ability of films in humid environment. The changes in mechanical properties were studied with respect to their chemical composition. The relationship between the mechanical properties and chemical structure changes in films was discussed.
Vedoucí práce: Vilma Buršíková
Bakalářská práce (Bc.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2018
Keywords: depozice tenkých vrstev; tenké vrstvy; thin film deposition; thin films; bakalářské práce; bachelor's theses