Příprava nanostrukturovaných tenkých vrstev magnetronovým naprašováním buzeným pulzy velkého výkonu /
Táto bakalárska práca sa venuje štúdiu magnetrónového naprašovania budeného pulzmi veľkého výkonu v porovnaní s procesom jednosmerného magnetrónového naprašovania. Objektom skúmania tejto práce sú deponované tenké nanokompozitné vrstvy typu TiC/C. Prvá kapitola predstavuje teoretické základy fyzikál...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Slovenština |
| Vydáno: |
2015
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/408765/prif_b/ |
| Shrnutí: | Táto bakalárska práca sa venuje štúdiu magnetrónového naprašovania budeného pulzmi veľkého výkonu v porovnaní s procesom jednosmerného magnetrónového naprašovania. Objektom skúmania tejto práce sú deponované tenké nanokompozitné vrstvy typu TiC/C. Prvá kapitola predstavuje teoretické základy fyzikálneho princípu magnetrónového naprašovania a metód analýzy vrstiev. Experimentálna časť popisuje výber vhodných riadiacich podmienok procesu naprašovania pulzmi veľkého výkonu a definuje výber parametrov pulzu. Experimenty sme uskutočnili pre rôzne prietoky acetylénu, použitého ako zdroj uhlíku vo vrstvách. Záverečná kapitola sa zaoberá predpokladaným vznikom nestabilít procesu naprašovania pulzmi veľkého výkonu a predkladá možné opatrenia. Obsahuje tiež spracované hodnoty výbojového prúdu a výbojového napätia pre pulzy počas procesu naprašovania. Pri oboch procesoch magnetrónového naprašovania sme dokázali porovnať podmienky a zloženie TiC/C vrstiev. This thesis is dedicated to the study of high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) compared with the process of direct current magnetron sputtering (DC-MS). The object extensively examined in the work is a deposited nanocomposite thin layer TiC/C. In the first chapter the theoretical basis of the physical principle of magnetron sputtering and the methods of analysis on the layers is introduced. In the experimental part suitable control parameters are chosen of HiPIMS process as well as a selection of pulse parameters. Experiments were carried out in order to examine various flow rates of acetylene such as the carbon source in the layers. The final chapter of this thesis discusses the predictable formation of instabilities in HiPIMS process and shows the possible precautions. The final chapter contains the processed values of the discharge current and voltage for the pulses during the sputtering process. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Petr Vašina |
| Fyzický popis: | 49 listů |