Depozice tenkých vrstev ve výbojích za atmosférického tlaku
V předložené práci studuji homogenní dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a depozice tenkých vrstev v těchto výbojích ve směsi hexamethyldisiloxanu s dusíkem a kyslíkem a ve směsi propan-butanu s dusíkem. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výbojového plasmatu a cha...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2010
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175867/prif_m/ |
| Shrnutí: | V předložené práci studuji homogenní dielektrické bariérové výboje hořící za atmosférického tlaku a depozice tenkých vrstev v těchto výbojích ve směsi hexamethyldisiloxanu s dusíkem a kyslíkem a ve směsi propan-butanu s dusíkem. Provedl jsem základní elektrickou diagnostiku výbojového plasmatu a charakterizaci připravených vrstev pomocí dostupných metod (např. optická mikroskopie, spektroskopická elipsometrie, hloubkově rozlišené indentační měření, FITR spektroskopie, spektrofotometrie v odraženém světle). Studoval jsem vliv teploty substrátu, množství příměsí a nový tvar elektrody při depozici na vlastnosti deponovaných vrstev. In the present work I studied dielectric barrier discharge at atmospheric pressure and the deposition of thin organosilicon films in nitrogen, oxygen and HMDSO or propane-butane nitrogen atmosphere. I performed basic electric diagnostics of plasma and the deposited films were characterised by optical microscopy, depth sensing indentation, ellipsometry, FTIR spectroscopy etc. I studied the effects of temperature, ammount of admixtures and new type of electrode on the film properties. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: David Trunec |
| Fyzický popis: | 60 l. |