Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev
Tématem této práce bylo nanášení tenkých polymerních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). K vybuzení plazmatu bylo používáno vysokofrekvenčního doutnavého kapacitně vázaného výboje a to jak v kontinuálním, tak i v pulzním režimu. Vrstvy byly vytvářeny z oktametylcyklotetrasi...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2008.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175319/prif_b/ |
| Shrnutí: | Tématem této práce bylo nanášení tenkých polymerních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). K vybuzení plazmatu bylo používáno vysokofrekvenčního doutnavého kapacitně vázaného výboje a to jak v kontinuálním, tak i v pulzním režimu. Vrstvy byly vytvářeny z oktametylcyklotetrasiloxanu. Jejich optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí elipsometrie a měření odrazivosti. Byla studována struktura vrstev a porovnávány optické konstanty pro různé frekvence pulzů v pulzním režimu výboje. Dále byl zjišťován vliv tlaku reaktantu a frekvence pulzů na rychlost depozice vrstvy. This work deals with the deposition of thin polymer films by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in radio frequency capacitive discharge. The discharge was operated in continuous wave as well as pulsed mode. The films were deposited from octamethylcyclotetrasiloxane. Their optical properties were studied by ellipsometry and reflectometry. Structure and optical properties of the films were compared for different pulse frequencies in pulse mode discharge. Additionally, the influence of pressure and pulse frequency on the deposition rate was investigated. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Lenka Zajíčková. |
| Fyzický popis: | 30 l. : il. |