Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev - Pekař, Václav (2008)
Tématem této práce bylo nanášení tenkých polymerních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). K vybuzení plazmatu bylo používáno vysokofrekvenčního doutnavého kapacitně vázaného výboje a to jak v kontinuálním, tak i v pulzním režimu. Vrstvy byly vytvářeny z oktametylcyklotetrasiloxanu. Jejich optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí elipsometrie a měření odrazivosti. Byla studována struktura vrstev a porovnávány optické konstanty pro různé frekvence pulzů v pulzním režimu výboje. Dále byl zjišťován vliv tlaku reaktantu a frekvence pulzů na rychlost depozice vrstvy.