Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji
Tématem této práce byla depozice tenkých vrstev metodou PECVD ve vysokofrek\-venčním doutnavém výboji. Vrstvy byly připravovány ze směsí obsahujících organosilikonové monomery hexametyldisilazan a hexametyldisiloxan. Vrstvy byly charakterizovány těmito metodami: FTIR, UV a viditelná spektrofotometri...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2010
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175319/prif_m/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad - F | K-12571 | 3145349078 |