Dekontaminace povrchu vzorků pro řádkovací elektronovou mikroskopii pomocí plazmatu /
Tato bakalářská práce se zabývá problematikou čištění povrchů od organické kontaminace metodou plazmového čištění. Metoda byla uskutečněna in situ pomocí konstrukčně zjednodušeného koplanárního dielektrického bariérového výboje použitelného při širokém rozmezí tlaku (WPR - CDBD). S cílem vyhodnocení...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Slovenština |
| Vydáno: |
2020
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://is.muni.cz/th/vusoo/ |
| Shrnutí: | Tato bakalářská práce se zabývá problematikou čištění povrchů od organické kontaminace metodou plazmového čištění. Metoda byla uskutečněna in situ pomocí konstrukčně zjednodušeného koplanárního dielektrického bariérového výboje použitelného při širokém rozmezí tlaku (WPR - CDBD). S cílem vyhodnocení úbytku nebo změny vrstvy konta-minantu byly použity kvantitativní i kvalitativní metody EDX, SEM a UV fotometrie. Metody ověřily vliv plazmového čištění na parametrech jako je vzdálenost od výboje nebo homogenita vrstev. This thesis deals with the problem of removal of organic contamination using a plasma cleaning method. The source of plasma was a wide pressure range - coplanar dielectric barrier discharge (WPR - CDBD). The effects of contamination removal were studied with EDX, SEM and UV photometry methods. The experiments verified the effect of plasma cleaning and its dependence on parameters such as distance from the discharge or layer homogeneity. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Pavel Sťahel |
| Fyzický popis: | 58 stran : ilustrace |