In-situ studium vnitřního pnutí vrstev připravených pomocí magnetronového naprašování /
Tato diplomová práce se věnuje in-situ měření pnutí v tenkých vrstvách připravovaných magnetronovým naprašováním. Pro toto měření byl použit vícesvazkový optický senzor na měření pnutí (Multibeam optical stress senzor - MOSS). Hlavním cílem bylo propojit teoretické mechismy popisující produkci pnutí...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Slovenština |
| Vydáno: |
2017
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/408184/prif_m/ |
| Shrnutí: | Tato diplomová práce se věnuje in-situ měření pnutí v tenkých vrstvách připravovaných magnetronovým naprašováním. Pro toto měření byl použit vícesvazkový optický senzor na měření pnutí (Multibeam optical stress senzor - MOSS). Hlavním cílem bylo propojit teoretické mechismy popisující produkci pnutí s nameřeným vývojem pnutí. Byly deponované jednoduché kovy a to molybdén, tantal, wolfram a měď. Taky byl deponovaný nanolaminát W-B-C. Byl zkoumaný vliv povrchu substrátu, struktury tenké vrstvy, energie dopadajících částic a vliv teploty substrátu. This thesis is devoted to in-situ stress measurement in thin films prepared by magnetron sputtering. Multibeam optical stress sensor (MOSS) was used for measurement. The main objective of this work was to explain stress behavior during thin film growth by theoretical stress generation mechanisms. Molybdenum, tantalum, tungsten, copper and W-B-C were deposited on silicon substrate as reference systems. The effect of impinging atom energy, thin film structure, substrate surface and heating on the stress evolution over the thin film growth was studied. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Pavel Souček |
| Fyzický popis: | 50 listů |