Využití atomic layer deposition pro přípravu TiSiO₂ vrstev /
V této bakalářské práci byly metodou depozice po atomárních vrstvách (atomic layer deposition) připraveny tenké vrstvy oxidu Ti₁-ₓSiₓO₂, s různým poměrem titanu a křemíku. Tloušťka a optické vlastnosti vrstev byly určeny pomocí elipsometrie ve viditelné a blízké ultrafialové oblasti spektra. Budoucí...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Angličtina |
| Vydáno: |
2017
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/437069/prif_b/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční |
Přírodovědecká fakulta | ÚK volný výběr - F | K-F-2017-VIDA | 3145370740 |