Příprava funkčních vrstev metodami PVD /
Předkládaná práce je zaměřena na vývoj tvrdých povlaků složených z titanu a uhlíku. Povlaky byly deponovány rozprašováním rotujícího cylindrického titanového terče ve směsi argonu a acetylenu. Substráty byly umístěny na držácích, jež prováděly takzvanou planetární rotaci kolem centrální rotující cyl...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2016
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/270180/prif_d/ |
| Shrnutí: | Předkládaná práce je zaměřena na vývoj tvrdých povlaků složených z titanu a uhlíku. Povlaky byly deponovány rozprašováním rotujícího cylindrického titanového terče ve směsi argonu a acetylenu. Substráty byly umístěny na držácích, jež prováděly takzvanou planetární rotaci kolem centrální rotující cylindrické titanové katody a kolem dalších tří vertikálních os. Na držáky substrátu bylo možné rovněž přivádět předpětí. V průběhu hledání optimálních depozičních parametrů pro růst povlaků s co největší možnou tvrdostí a s nízkým koeficientem tření, byly monitorovány plazmové parametry, které byly posléze korelovány s vlastnostmi deponovaných povlaků. Hodnota poměru intenzit spektrálních čar Ti/Ar, stejně jako hodnota katodového napětí, vykázaly náhlý pokles při takových depozičních podmínkách, při kterých zároveň rostly vrstvy s maximální dosaženou tvrdostí. V této oblasti ukázala EDX analýza rovněž prudký pokles atomové koncentrace titanu v deponovaných povlacích. The present work is focused to developing the titanium-carbon hard coatings. The coatings were deposited by sputtering using a rotating cylindrical titanium target in an argon/acetylene gas mixture. Substrates were placed on a DC-biasable holder to perform so called planetary rotation around the central rotating cylindrical Ti cathode and around two other vertical axex. While the optimal deposition process parameters to grow the coating of the highest possible hardness and low friction coefficient were sought, the plasma parameters were monitored and correlated with the properties of the deposited coatings. The Ti/Ar line intensity and the cathode voltage exhibited a sudden drop at the conditions for which the maximal hardness was reached. EDX analyses also showed a sudden drop in the atomic concentration of titanium and a sudden increase in that of carbon at the same moment. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Petr Vašina |
| Fyzický popis: | 116 stran |