Plazmová úprava povrchu krystalického křemíku

V předložené diplomové práci studujeme plazmové úpravy krystalického křemíku s využitím difúzního koplanárního povrchového bariérového výboje (DCSBD) buzeného za atmosférického tlaku. Byly studovány povrchové vlastnosti křemíku po plazmové úpravě a vliv podmínek opracování, krystalografické orientac...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Haničinec, Martin (Autor práce)
Další autoři: Sťahel, Pavel (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Čeština
Vydáno: 2012
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/269665/prif_m/
Obálka
Popis
Shrnutí:V předložené diplomové práci studujeme plazmové úpravy krystalického křemíku s využitím difúzního koplanárního povrchového bariérového výboje (DCSBD) buzeného za atmosférického tlaku. Byly studovány povrchové vlastnosti křemíku po plazmové úpravě a vliv podmínek opracování, krystalografické orientace křemíku a pracovního plynu na výslednou modifikaci a stárnutí povrchu. Vlastnosti povrchové vrstvy křemíkového substrátu po plazmovém opracování byly studovány technikami, jako AFM, SEM a EDX a byla též určována povrchová energie a smáčivost modifikovaných povrchů.
In the present work we study plasma modifications of crystalline silicon surface in diffuse coplanar barrier discharge (DCSBD) generated in atmospheric pressure. Properties of plasma modified silicon surface were studied and the influences of processing conditions, crystallographic orientation of silicon surface and various working gases on the plasma modification of the surface and its aging. Surface properties of silicon substrate after plasma modification were studied by the means of AFM, SEM and EDX. Also the surface energy and wettability of plasma modified surfaces were measured.
Popis jednotky:Vedoucí práce: Pavel Sťahel
Fyzický popis:78 l.