Zpětnovazební řízení reaktivního magnetronového naprašování zařízením Speedflo

Táto práca je venovaná štúdiu riadenia a teoretického modelovania procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania. Opísané sú tu fyzikálne princípy samotného magnetrónového naprašovania ako aj hysterézne správanie pri pripustení reaktívneho plynu. Je tu prezentované a podrobne otestované komerčne po...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Klein, Peter (Autor práce)
Další autoři: Vašina, Petr, 1979- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Slovenština
Vydáno: 2012
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/269740/prif_m/
Obálka
LEADER 04940ctm a22009017a 4500
001 MUB01000721532
003 CZ BrMU
005 20120831084540.0
008 120628s2012 xr ||||| |||||||||||slo d
STA |a POSLANO DO SKCR  |b 2020-05-07 
035 |a (ISMU-VSKP)207572 
040 |a BOD114  |b cze  |d BOD004 
072 7 |a 621  |x Strojírenství  |2 Konspekt  |9 19 
080 |a 621.793  |2 MRF 
080 |a 621.793/.795  |2 MRF 
100 1 |a Klein, Peter  |% UČO 269740  |* [absolvent PřírF MU]  |4 dis 
242 1 0 |a Feedback system to control reactive magnetron sputtering  |y eng 
245 1 0 |a Zpětnovazební řízení reaktivního magnetronového naprašování zařízením Speedflo  |h [rukopis] /  |c Peter Klein 
260 |c 2012 
300 |a 49 l. 
500 |a Vedoucí práce: Petr Vašina 
502 |a Diplomová práce (Mgr.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2012 
520 2 |a Táto práca je venovaná štúdiu riadenia a teoretického modelovania procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania. Opísané sú tu fyzikálne princípy samotného magnetrónového naprašovania ako aj hysterézne správanie pri pripustení reaktívneho plynu. Je tu prezentované a podrobne otestované komerčne používané zariadenie Speedflo, ktoré umožňuje spätnoväzobné riadenie takéhoto procesu. Pri rôzne definovaných parametroch a podmienkach sú experimentálne overené schopnosti tohto zariadenia riadiť proces reaktívneho magnetrónového naprašovania. Je tu popísaný upravený numerický model vychádzajúci pôvodne z Bergovho modelu.  |% cze 
520 2 9 |a This work is dedicated to the study of control and theoretical modeling of reactive magnetron sputtering process. Physical properties of magnetron sputtering and hysteresis behavior by inlet of reactive gas are described. Commercially used device Speedflo, which is able to feedback control this process, is presented and tested in detail. The abilities to control process of reactive magnetron sputtering by this device using different parameters and under different circumstances are experimentally measured. Modified numerical model based on Bergs model is described.  |9 eng 
650 0 7 |a depozice tenkých vrstev  |7 ph541607  |2 czenas 
650 0 7 |a povrchové úpravy materiálů  |7 ph124452  |2 czenas 
650 0 9 |a finishes and finishing  |2 eczenas 
650 0 9 |a surface finishing  |2 eczenas 
650 0 9 |a thin film deposition  |2 eczenas 
650 0 9 |a thin film depozition  |2 eczenas 
655 7 |a diplomové práce  |7 fd132022  |2 czenas 
658 |a Fyzika  |b Fyzika plazmatu  |c PřF N-FY PLAZ (PLAZ)  |2 CZ-BrMU 
700 1 |a Vašina, Petr,  |d 1979-  |7 mub2011669170  |% UČO 21782  |4 ths 
710 2 |a Masarykova univerzita.  |b Ústav fyzikální elektroniky  |7 xx0116219  |4 dgg 
856 4 1 |u http://is.muni.cz/th/269740/prif_m/ 
CAT |c 20120628  |l MUB01  |h 0421 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20120718  |l MUB01  |h 1502 
CAT |a RACLAVSKA  |b 02  |c 20120720  |l MUB01  |h 1409 
CAT |a NOVAKOVA  |b 02  |c 20120831  |l MUB01  |h 0845 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20130304  |l MUB01  |h 1433 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20131217  |l MUB01  |h 1351 
CAT |c 20140127  |l MUB01  |h 1919 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140527  |l MUB01  |h 0743 
CAT |c 20140911  |l MUB01  |h 1610 
CAT |c 20140912  |l MUB01  |h 1104 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141113  |l MUB01  |h 0712 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141210  |l MUB01  |h 0807 
CAT |c 20150703  |l MUB01  |h 1206 
CAT |c 20150901  |l MUB01  |h 1449 
CAT |c 20150921  |l MUB01  |h 1410 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20151226  |l MUB01  |h 0244 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20170829  |l MUB01  |h 0009 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20170925  |l MUB01  |h 1626 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20180918  |l MUB01  |h 1318 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190107  |l MUB01  |h 0116 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190522  |l MUB01  |h 0748 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20191211  |l MUB01  |h 1017 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20200323  |l MUB01  |h 2339 
CAT |c 20200507  |l MUB01  |h 1114 
CAT |a FUKSOVAX  |b 02  |c 20201027  |l MUB01  |h 1201 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201101  |l MUB01  |h 0053 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201126  |l MUB01  |h 0114 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2357 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2359 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 0959 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 1948 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20210724  |l MUB01  |h 1214 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1924 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1925 
CAT |a FUKSOVAX  |b 02  |c 20230712  |l MUB01  |h 1121 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20230808  |l MUB01  |h 2144 
LOW |a POSLANO DO SKCR  |b 2020-05-07 
994 - 1 |l MUB01  |l MUB01  |m VYSPR  |1 PRIF  |a Přírodovědecká fakulta  |2 PRSFY  |b ÚK sklad - F  |3 K-12760  |5 3145355479  |8 20120720  |f 71  |f Prezenční SKLAD  |q 20180809  |r 20120720  |s dar 
AVA |a SCI50  |b PRIF  |c ÚK sklad - F  |d K-12760  |e available  |t K dispozici  |f 1  |g 0  |h N  |i 0  |j PRSFY