Zpětnovazební řízení reaktivního magnetronového naprašování zařízením Speedflo
Táto práca je venovaná štúdiu riadenia a teoretického modelovania procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania. Opísané sú tu fyzikálne princípy samotného magnetrónového naprašovania ako aj hysterézne správanie pri pripustení reaktívneho plynu. Je tu prezentované a podrobne otestované komerčne po...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Slovenština |
| Vydáno: |
2012
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/269740/prif_m/ |
| Shrnutí: | Táto práca je venovaná štúdiu riadenia a teoretického modelovania procesu reaktívneho magnetrónového naprašovania. Opísané sú tu fyzikálne princípy samotného magnetrónového naprašovania ako aj hysterézne správanie pri pripustení reaktívneho plynu. Je tu prezentované a podrobne otestované komerčne používané zariadenie Speedflo, ktoré umožňuje spätnoväzobné riadenie takéhoto procesu. Pri rôzne definovaných parametroch a podmienkach sú experimentálne overené schopnosti tohto zariadenia riadiť proces reaktívneho magnetrónového naprašovania. Je tu popísaný upravený numerický model vychádzajúci pôvodne z Bergovho modelu. This work is dedicated to the study of control and theoretical modeling of reactive magnetron sputtering process. Physical properties of magnetron sputtering and hysteresis behavior by inlet of reactive gas are described. Commercially used device Speedflo, which is able to feedback control this process, is presented and tested in detail. The abilities to control process of reactive magnetron sputtering by this device using different parameters and under different circumstances are experimentally measured. Modified numerical model based on Bergs model is described. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Petr Vašina |
| Fyzický popis: | 49 l. |