Plazmochemická depozice diamantových vrstev v duálním mikrovlnném/vysokofrekvečním výboji

Tato práce se zabývá depozicí ultrananokrystalických diamantových vrstev na křemík, titan a zlato plazmochemickou depozicí z plynné fáze v mikrovlnném plazmovém reaktoru zvonovitého tvaru typu ASTeX, který využívá mikrovlnný (2,45 GHz) a radiofrekvenční (13,56 MHz) výboj. Záporné stejnosměrné samopř...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Šperka, Jiří (Autor práce)
Další autoři: Zajíčková, Lenka, 1971- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Čeština
Vydáno: 2011
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/208123/prif_m/
Obálka
LEADER 05730ctm a22008897a 4500
001 MUB01000683378
003 CZ BrMU
005 20110719102213.0
008 110702s2011 xr ||||| |||||||||||cze d
STA |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-12-20 
035 |a (ISMU-VSKP)215106 
040 |a BOD114  |b cze  |d BOD004 
072 7 |a 53  |x Fyzika  |2 Konspekt  |9 6 
080 |a 538.975  |2 MRF 
080 |a 533.9  |2 MRF 
080 |a 53  |2 MRF 
100 1 |a Šperka, Jiří  |% UČO 208123  |* [absolvent PřírF MU]  |4 dis 
242 1 0 |a Plasmachemical deposition diamond films in dual microwave/radio frequency discharge  |y eng 
245 1 0 |a Plazmochemická depozice diamantových vrstev v duálním mikrovlnném/vysokofrekvečním výboji  |h [rukopis] /  |c Jiří Šperka 
260 |c 2011 
300 |a 71 l. 
500 |a Vedoucí práce: Lenka Zajíčková 
502 |a Diplomová práce (Mgr.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2011 
520 2 |a Tato práce se zabývá depozicí ultrananokrystalických diamantových vrstev na křemík, titan a zlato plazmochemickou depozicí z plynné fáze v mikrovlnném plazmovém reaktoru zvonovitého tvaru typu ASTeX, který využívá mikrovlnný (2,45 GHz) a radiofrekvenční (13,56 MHz) výboj. Záporné stejnosměrné samopředpětí (metoda BEN), které vzniká díky radiofrekvenčnímu výboji, bylo využito pro počáteční nukleaci diamantu a pro jeho kontinuální renukleaci během depozice, která je nezbytná pro růst ultrananokrystalické diamantové vrstvy. Výchozím plynem byl metan vysoce zředěný ve vodíku, mikrovlnný výkon byl 850 W. Teplota držáku substrátu byla bezkontaktně měřena pomocí pyrometru Raytek. Vrstvy byly charakterizovány pomocí rastrovací elektronové mikroskopie, byla využita také metoda nízkoenergiové elektronové mikroskopie (SLEEM). Ukázalo se, že vyšší harmonické frekvence plazmových oscilací existují také ve vysokém tlaku (jednotky kPa), a že mohou být jako nová diagnostická metoda využity ke studiu d  |% cze 
520 2 9 |a This thesis deals with the deposition of ultrananocrystalline diamond films by plasma enhanced chemical vapor deposition in conventional bell jar plasma reactor of ASTeX type using dual frequency discharge, microwave (2,45 GHz) and radio frequency (13,56 MHz). The latter discharge, leading to the dc self-biasing of the substrate, was used to initiate diamond nucleation and continued to deposit ultrananocrystalline material due to permanent renucleation. The growth was performed using small amount of methane in hydrogen and it was tested not only on silicon substrates but also on titanium and gold. The films were characterized by scanning electron microscopies including low energy scanning mode (SLEEM). The infrared pyrometer Raytek was used to measure the temperature of the substrate holder. Diagnostics of the deposition process was performed by measuring amplitudes of various voltage harmonics. It was shown that higher harmonic frequencies of plasma oscillations exist at the processe  |9 eng 
650 0 7 |a fyzika plazmatu  |7 ph120429  |2 czenas 
650 0 7 |a tenké vrstvy  |7 ph126536  |2 czenas 
650 0 9 |a plasma physics  |2 eczenas 
650 0 9 |a thin films  |2 eczenas 
655 7 |a diplomové práce  |7 fd132022  |2 czenas 
658 |a Fyzika  |b Fyzika plazmatu  |c PřF N-FY PLAZ (PLAZ)  |2 CZ-BrMU 
700 1 |a Zajíčková, Lenka,  |d 1971-  |7 mub2011667022  |% UČO 1414  |4 ths 
710 2 |a Masarykova univerzita.  |b Ústav fyzikální elektroniky  |7 xx0116219  |4 dgg 
856 4 1 |u http://is.muni.cz/th/208123/prif_m/ 
CAT |c 20110702  |l MUB01  |h 0424 
CAT |a HOLA  |b 02  |c 20110711  |l MUB01  |h 0927 
CAT |a HOLA  |b 02  |c 20110711  |l MUB01  |h 0929 
CAT |a NOVAKOVA  |b 02  |c 20110719  |l MUB01  |h 1022 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20111026  |l MUB01  |h 0949 
CAT |a batch  |b 00  |c 20120324  |l MUB01  |h 0149 
CAT |c 20120610  |l MUB01  |h 2027 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20121008  |l MUB01  |h 2227 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20130304  |l MUB01  |h 1250 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140115  |l MUB01  |h 1227 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140514  |l MUB01  |h 1249 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140527  |l MUB01  |h 0743 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141113  |l MUB01  |h 0712 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141210  |l MUB01  |h 0807 
CAT |c 20150901  |l MUB01  |h 1447 
CAT |c 20150921  |l MUB01  |h 1409 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20151221  |l MUB01  |h 1056 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20151226  |l MUB01  |h 0203 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20160906  |l MUB01  |h 1347 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20180918  |l MUB01  |h 1317 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190107  |l MUB01  |h 0116 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190522  |l MUB01  |h 0748 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20191211  |l MUB01  |h 1017 
CAT |c 20191220  |l MUB01  |h 1309 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20200323  |l MUB01  |h 2339 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201101  |l MUB01  |h 0053 
CAT |a VACOVAX  |b 02  |c 20201113  |l MUB01  |h 1314 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201126  |l MUB01  |h 0114 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2357 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2359 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 0954 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 1943 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20210724  |l MUB01  |h 1207 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1924 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1925 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20230808  |l MUB01  |h 2144 
LOW |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-12-20 
994 - 1 |l MUB01  |l MUB01  |m VYSPR  |1 PRIF  |a Přírodovědecká fakulta  |2 PRSFY  |b ÚK sklad - F  |3 K-12686  |5 3145352473  |8 20110711  |f 71  |f Prezenční SKLAD  |q 20180809  |r 20110629  |s dar 
AVA |a SCI50  |b PRIF  |c ÚK sklad - F  |d K-12686  |e available  |t K dispozici  |f 1  |g 0  |h N  |i 0  |j PRSFY