Study of radio frequency low pressure glow discharges

Předmětem předkládané práce je studium vysokofrekvenčích (vf) doutnavých výbojů využívaných pro plazmatem zesílenou depozici z plyné fáze (PECVD) v induktivním a kapacitním výboji v kyslíku a hexametyldisiloxanu (HMDSO). Pro studium vlivu průtoku kyslíku a HMDSO, tlaku plynů, směsi plynů a vf výkonu...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Šmíd, Radek, 1980- (Autor práce)
Další autoři: Zajíčková, Lenka, 1971- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Angličtina
Vydáno: 2010
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/22440/prif_d/
Obálka
LEADER 05768ctm a22009017a 4500
001 MUB01000655950
003 CZ BrMU
005 20190908001555.0
008 101010s2010 xr ||||| |||||||||||eng d
STA |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-09-10 
035 |a (ISMU-VSKP)80820 
040 |a BOD114  |b cze  |d BOD004 
072 7 |a 533  |x Mechanika plynů. Aeromechanika. Fyzika plazmatu  |2 Konspekt  |9 6 
080 |a 533.9  |2 MRF 
080 |a 533  |2 MRF 
100 1 |a Šmíd, Radek,  |d 1980-  |7 mub2011667018  |% UČO 22440  |4 dis 
245 1 0 |a Study of radio frequency low pressure glow discharges  |h [rukopis] /  |c Radek Šmíd 
246 1 |a Studium vysokofrekvenčních nízkotlakých doutnavých výbojů 
260 |c 2010 
300 |a xi, 114 l. 
500 |a Vedoucí práce: Lenka Zajíčková 
502 |a Dizertace (Ph.D.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2010 
520 2 |a Předmětem předkládané práce je studium vysokofrekvenčích (vf) doutnavých výbojů využívaných pro plazmatem zesílenou depozici z plyné fáze (PECVD) v induktivním a kapacitním výboji v kyslíku a hexametyldisiloxanu (HMDSO). Pro studium vlivu průtoku kyslíku a HMDSO, tlaku plynů, směsi plynů a vf výkonu byla využita Langmuirova sonda, vf planární sonda, optická emisní spektroskopie a aktinometrie. Kapacitně vázané výboje byly studovány ve válcovém depozičním reaktor a kulovém reaktoru určeném k diagnostice plazmatu. Oba reaktory byly tvořeny rovnoběžnými elektrodami. Výboj s induktivní vazbou byl pozorován ve vf helikónovém reaktoru. Koncentrace elektronů byla měřena ve středu difúzní komory vf helikonového reaktoru v argonovém a kyslíkovém výboji s induktivní a kapacitní vazbou pomocí Langmuirovy sondy. Koncentrace elektronů rostla s dodávaným výkonem do výboje jen v případě kapacitní vazby. V induktivně vázaném výboji vykazuje maximální hodnoty, saturaci nebo dokonce pokles s dodávaným v  |% cze 
520 2 9 |a The subject of the thesis is the study of radio frequency (rf) glow discharges for plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) inductively and capacitively coupled discharges. Langmuir probe, rf planar probe, optical emission spectroscopy and actinometry were employed in order to study influence of oxygen/HMDSO flow rates, gas pressures, gas mixtures and rf powers. The study of capacitively coupled discharge were done in the deposition cylindrical reactor and the diagnostics spherical reactor with parallel plate electrode configuration. Inductively coupled discharge was studied in the rf helicon reactor. Electron density was measured in the center of the diffusion chamber of the rf helicon reactor in inductively and capacitively coupled argon and oxygen discharges by Langmuir probe. Electron densities in the diffusion chamber increased with increasing rf power for capacitive coupling. It exhibited maximal values, saturation or even decli  |9 eng 
650 0 7 |a fyzika plazmatu  |7 ph120429  |2 czenas 
650 0 9 |a plasma physics  |2 eczenas 
655 7 |a disertace  |7 fd132024  |2 czenas 
658 |a Fyzika (čtyřleté)  |b Fyzika plazmatu  |c PřF D-FY4 FYPZ (FYPZ)  |2 CZ-BrMU 
700 1 |a Zajíčková, Lenka,  |d 1971-  |7 mub2011667022  |% UČO 1414  |4 ths 
710 2 |a Masarykova univerzita.  |b Ústav fyzikální elektroniky  |7 xx0116219  |4 dgg 
856 4 1 |u http://is.muni.cz/th/22440/prif_d/ 
CAT |c 20101010  |l MUB01  |h 0454 
CAT |a DRIMLOVA  |b 02  |c 20101217  |l MUB01  |h 0849 
CAT |a NOVAKOVA  |b 02  |c 20110104  |l MUB01  |h 1537 
CAT |c 20110627  |l MUB01  |h 1920 
CAT |c 20110627  |l MUB01  |h 2330 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20111026  |l MUB01  |h 0949 
CAT |a batch  |b 00  |c 20120324  |l MUB01  |h 0142 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20120607  |l MUB01  |h 1520 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20120607  |l MUB01  |h 1520 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20120607  |l MUB01  |h 1521 
CAT |c 20120610  |l MUB01  |h 2014 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20121008  |l MUB01  |h 2227 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20130304  |l MUB01  |h 1135 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140115  |l MUB01  |h 1227 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20140527  |l MUB01  |h 0743 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141113  |l MUB01  |h 0712 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20141210  |l MUB01  |h 0807 
CAT |c 20150901  |l MUB01  |h 1446 
CAT |c 20150921  |l MUB01  |h 1407 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20151221  |l MUB01  |h 1056 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20151226  |l MUB01  |h 0128 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20160906  |l MUB01  |h 1347 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20180918  |l MUB01  |h 1317 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190107  |l MUB01  |h 0116 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190522  |l MUB01  |h 0748 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20190908  |l MUB01  |h 0015 
CAT |c 20190910  |l MUB01  |h 1245 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20191211  |l MUB01  |h 1017 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20200323  |l MUB01  |h 2339 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201101  |l MUB01  |h 0053 
CAT |a VACOVAX  |b 02  |c 20201113  |l MUB01  |h 1314 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201126  |l MUB01  |h 0114 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2357 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2358 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210218  |l MUB01  |h 2359 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 0949 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 1938 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20210724  |l MUB01  |h 1200 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1923 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20221014  |l MUB01  |h 1925 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20230808  |l MUB01  |h 2143 
LOW |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-09-10 
994 - 1 |l MUB01  |l MUB01  |m VYSPR  |1 PRIF  |a Přírodovědecká fakulta  |2 PRSFY  |b ÚK sklad - F  |3 K-12652  |5 3145350314  |8 20101217  |f 71  |f Prezenční SKLAD  |q 20180809  |r 20101217  |s dar 
AVA |a SCI50  |b PRIF  |c ÚK sklad - F  |d K-12652  |e available  |t K dispozici  |f 1  |g 0  |h N  |i 0  |j PRSFY