Study of radio frequency low pressure glow discharges
Předmětem předkládané práce je studium vysokofrekvenčích (vf) doutnavých výbojů využívaných pro plazmatem zesílenou depozici z plyné fáze (PECVD) v induktivním a kapacitním výboji v kyslíku a hexametyldisiloxanu (HMDSO). Pro studium vlivu průtoku kyslíku a HMDSO, tlaku plynů, směsi plynů a vf výkonu...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Angličtina |
| Vydáno: |
2010
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/22440/prif_d/ |
| Shrnutí: | Předmětem předkládané práce je studium vysokofrekvenčích (vf) doutnavých výbojů využívaných pro plazmatem zesílenou depozici z plyné fáze (PECVD) v induktivním a kapacitním výboji v kyslíku a hexametyldisiloxanu (HMDSO). Pro studium vlivu průtoku kyslíku a HMDSO, tlaku plynů, směsi plynů a vf výkonu byla využita Langmuirova sonda, vf planární sonda, optická emisní spektroskopie a aktinometrie. Kapacitně vázané výboje byly studovány ve válcovém depozičním reaktor a kulovém reaktoru určeném k diagnostice plazmatu. Oba reaktory byly tvořeny rovnoběžnými elektrodami. Výboj s induktivní vazbou byl pozorován ve vf helikónovém reaktoru. Koncentrace elektronů byla měřena ve středu difúzní komory vf helikonového reaktoru v argonovém a kyslíkovém výboji s induktivní a kapacitní vazbou pomocí Langmuirovy sondy. Koncentrace elektronů rostla s dodávaným výkonem do výboje jen v případě kapacitní vazby. V induktivně vázaném výboji vykazuje maximální hodnoty, saturaci nebo dokonce pokles s dodávaným v The subject of the thesis is the study of radio frequency (rf) glow discharges for plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) inductively and capacitively coupled discharges. Langmuir probe, rf planar probe, optical emission spectroscopy and actinometry were employed in order to study influence of oxygen/HMDSO flow rates, gas pressures, gas mixtures and rf powers. The study of capacitively coupled discharge were done in the deposition cylindrical reactor and the diagnostics spherical reactor with parallel plate electrode configuration. Inductively coupled discharge was studied in the rf helicon reactor. Electron density was measured in the center of the diffusion chamber of the rf helicon reactor in inductively and capacitively coupled argon and oxygen discharges by Langmuir probe. Electron densities in the diffusion chamber increased with increasing rf power for capacitive coupling. It exhibited maximal values, saturation or even decli |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Lenka Zajíčková |
| Fyzický popis: | xi, 114 l. |