Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji
Tématem této práce byla depozice tenkých vrstev metodou PECVD ve vysokofrek\-venčním doutnavém výboji. Vrstvy byly připravovány ze směsí obsahujících organosilikonové monomery hexametyldisilazan a hexametyldisiloxan. Vrstvy byly charakterizovány těmito metodami: FTIR, UV a viditelná spektrofotometri...
Uloženo v:
Hlavní autor: | |
---|---|
Další autoři: | |
Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
Jazyk: | Čeština |
Vydáno: |
2010
|
Témata: | |
On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175319/prif_m/ |
LEADER | 05492ctm a22009977a 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | MUB01000646043 | ||
003 | CZ BrMU | ||
005 | 20100826155557.0 | ||
008 | 100701s2010 xr ||||| |||||||||||cze d | ||
STA | |a POSLANO DO SKCR |b 2019-05-27 | ||
035 | |a (ISMU-VSKP)169249 | ||
040 | |a BOD114 |b cze |d BOD004 | ||
072 | 7 | |a 621 |x Strojírenství |2 Konspekt |9 19 | |
080 | |a 621.793.3 |2 MRF | ||
080 | |a 620.1/.2 |2 MRF | ||
080 | |a 544.556-126 |2 MRF | ||
080 | |a 543.42-74 |2 MRF | ||
080 | |a 621 |2 MRF | ||
100 | 1 | |a Pekař, Václav |% UČO 175319 |* [absolvent PřírF MU] |4 dis | |
242 | 1 | 0 | |a Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon films in radio frequency glow discharges |y eng |
245 | 1 | 0 | |a Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji |h [rukopis] / |c Václav Pekař |
260 | |c 2010 | ||
300 | |a 61 l. | ||
500 | |a Vedoucí práce: Lenka Zajíčková | ||
502 | |a Diplomová práce (Mgr.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2010 | ||
520 | 2 | |a Tématem této práce byla depozice tenkých vrstev metodou PECVD ve vysokofrek\-venčním doutnavém výboji. Vrstvy byly připravovány ze směsí obsahujících organosilikonové monomery hexametyldisilazan a hexametyldisiloxan. Vrstvy byly charakterizovány těmito metodami: FTIR, UV a viditelná spektrofotometrie, elipsometrie, RBS a ERDA. Byla vyšetřována především IR spektra vrstev. U vrstev připravených ze směsi HMDSO a kyslíku byl zkoumán vliv podílu kyslíku v depoziční směsi na chemickou strukturu a složení vrstev. Dále byly zkoumány optické vlastnosti vrstev a vliv zahřívání vrstev na na jejich chemickou strukturu. |% cze | |
520 | 2 | 9 | |a The subject matter of my diploma paper is deposition of thin films by PECVD in radio frequency glow discharge. Films were prepared out of mixtures containing organosilicon monomers hexamethyldisilasane and hexamethyldisiloxane. The characterisation of the films was accomplished by this methods: FTIR, UV and visible spectrofotometry, ellipsometry, Rutherford backscattering spectroscopy and elastic recoil detection analysis. First of all IR spectra of the films were examined. The influence of the ratio of oxygen in the deposition mixture to chemical structure and constitution of the films was studied. Further we studied optical properties of the films and the influence of heating films to their chemical structure. |9 eng |
650 | 0 | 7 | |a depozice tenkých vrstev |7 ph541607 |2 czenas |
650 | 0 | 7 | |a infračervená spektroskopie |7 ph318941 |2 czenas |
650 | 0 | 7 | |a optické vlastnosti materiálů |7 ph316259 |2 czenas |
650 | 0 | 7 | |a plazmová polymerizace |7 ph163047 |2 czenas |
650 | 0 | 9 | |a infrared spectroscopy |2 eczenas |
650 | 0 | 9 | |a optical properties of materials |2 eczenas |
650 | 0 | 9 | |a plasma polymerization |2 eczenas |
650 | 0 | 9 | |a thin film deposition |2 eczenas |
650 | 0 | 9 | |a thin film depozition |2 eczenas |
655 | 7 | |a diplomové práce |7 fd132022 |2 czenas | |
658 | |a Fyzika |b Fyzika plazmatu |c PřF N-FY PLAZ (PLAZ) |2 CZ-BrMU | ||
700 | 1 | |a Zajíčková, Lenka, |d 1971- |7 mub2011667022 |% UČO 1414 |4 ths | |
710 | 2 | |a Masarykova univerzita. |b Ústav fyzikální elektroniky |7 xx0116219 |4 dgg | |
856 | 4 | 1 | |u http://is.muni.cz/th/175319/prif_m/ |
CAT | |c 20100702 |l MUB01 |h 1037 | ||
CAT | |a KRIZOVA |b 02 |c 20100806 |l MUB01 |h 1432 | ||
CAT | |a NOVAKOVA |b 02 |c 20100826 |l MUB01 |h 1555 | ||
CAT | |c 20110627 |l MUB01 |h 1918 | ||
CAT | |c 20110627 |l MUB01 |h 2328 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20111026 |l MUB01 |h 0949 | ||
CAT | |a batch |b 00 |c 20120324 |l MUB01 |h 0139 | ||
CAT | |c 20120610 |l MUB01 |h 2009 | ||
CAT | |a HANAV |b 02 |c 20121008 |l MUB01 |h 2227 | ||
CAT | |a BATCH |b 00 |c 20130304 |l MUB01 |h 1109 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20140115 |l MUB01 |h 1227 | ||
CAT | |c 20140127 |l MUB01 |h 1905 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20140527 |l MUB01 |h 0743 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20141113 |l MUB01 |h 0712 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20141210 |l MUB01 |h 0807 | ||
CAT | |c 20150703 |l MUB01 |h 1127 | ||
CAT | |c 20150901 |l MUB01 |h 1445 | ||
CAT | |c 20150921 |l MUB01 |h 1406 | ||
CAT | |a HANAV |b 02 |c 20151221 |l MUB01 |h 1056 | ||
CAT | |a BATCH |b 00 |c 20151226 |l MUB01 |h 0115 | ||
CAT | |a HANAV |b 02 |c 20160906 |l MUB01 |h 1347 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20180918 |l MUB01 |h 1317 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20190107 |l MUB01 |h 0116 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20190522 |l MUB01 |h 0748 | ||
CAT | |c 20190527 |l MUB01 |h 1024 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20191211 |l MUB01 |h 1017 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20200323 |l MUB01 |h 2339 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20201101 |l MUB01 |h 0053 | ||
CAT | |a VACOVAX |b 02 |c 20201113 |l MUB01 |h 1314 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20201126 |l MUB01 |h 0114 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20210218 |l MUB01 |h 2357 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20210218 |l MUB01 |h 2357 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20210218 |l MUB01 |h 2358 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20210218 |l MUB01 |h 2358 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20210218 |l MUB01 |h 2359 | ||
CAT | |c 20210614 |l MUB01 |h 0947 | ||
CAT | |c 20210614 |l MUB01 |h 1937 | ||
CAT | |a BATCH |b 00 |c 20210724 |l MUB01 |h 1158 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20221014 |l MUB01 |h 1923 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20221014 |l MUB01 |h 1925 | ||
CAT | |a POSPEL |b 02 |c 20230808 |l MUB01 |h 2143 | ||
LOW | |a POSLANO DO SKCR |b 2019-05-27 | ||
994 | - | 1 | |l MUB01 |l MUB01 |m VYSPR |1 PRIF |a Přírodovědecká fakulta |2 PRSFY |b ÚK sklad - F |3 K-12571 |5 3145349078 |8 20100806 |a 2010 |f 71 |f Prezenční SKLAD |q 20180809 |r 20100806 |s dar |
AVA | |a SCI50 |b PRIF |c ÚK sklad - F |d K-12571 |e available |t K dispozici |f 1 |g 0 |h N |i 0 |j PRSFY |