Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji - Pekař, Václav (2010)
Tématem této práce byla depozice tenkých vrstev metodou PECVD ve vysokofrek\-venčním doutnavém výboji. Vrstvy byly připravovány ze směsí obsahujících organosilikonové monomery hexametyldisilazan a hexametyldisiloxan. Vrstvy byly charakterizovány těmito metodami: FTIR, UV a viditelná spektrofotometrie, elipsometrie, RBS a ERDA. Byla vyšetřována především IR spektra vrstev. U vrstev připravených ze směsi HMDSO a kyslíku byl zkoumán vliv podílu kyslíku v depoziční směsi na chemickou strukturu a složení vrstev. Dále byly zkoumány optické vlastnosti vrstev a vliv zahřívání vrstev na na jejich chemickou strukturu.