Rtg reflexe na vrstvách fotorezistu

V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL)...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Jíša, Jan (Autor práce)
Další autoři: Meduňa, Mojmír, 1974- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Čeština
Vydáno: 2010
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/175991/prif_m/
Obálka
LEADER 05367ctm a22008177a 4500
001 MUB01000646025
003 CZ BrMU
005 20110208082327.0
008 100701s2010 xr ||||| |||||||||||cze d
STA |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-05-27 
035 |a (ISMU-VSKP)168356 
040 |a BOD114  |b cze  |d BOD004 
072 7 |a 621  |x Strojírenství  |2 Konspekt  |9 19 
080 |a 621.793  |2 MRF 
080 |a 517.443  |2 MRF 
080 |a 621  |2 MRF 
100 1 |a Jíša, Jan  |% UČO 175991  |* [absolvent PřírF MU]  |4 dis 
242 1 0 |a X-ray reflectivity on fotoresist layers  |y eng 
245 1 0 |a Rtg reflexe na vrstvách fotorezistu  |h [rukopis] /  |c Jan Jíša 
260 |c 2010 
300 |a 69 l. 
500 |a Vedoucí práce: Mojmír Meduňa 
502 |a Diplomová práce (Mgr.)--Masarykova univerzita, Přírodovědecká fakulta, 2010 
520 2 |a V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a přeměřoval je v rtg laboratoři ÚFKL. Naměřená data jsem zpracovával s využitím Fourierovy transformace rtg reflexní křivky, protože nanesené vrstvy byly mnohem tlustší než vrstvy běžně zkoumané touto metodou. Kromě rtg reflexe jsem pro srovnání měřil tloušťku vrstev také optickou reflexní sondou a profilometrem. U optické sondy docházelo v šesti ze sedmi případů ke shodě v rámci chyby, u profilometru vycházely tloušťky řádově o několik procent větší. Dále jsem se snažil nasimulovat naměřená data modelem dvou vrstev na substrátu, v případě pozitivních fotorezistů docházelo k jisté shodě, ovšem pro negativní byl tento model nedostačující. Z těchto simulací se nakonec po  |% cze 
520 2 9 |a In the present work I study the thickness and surface roughness of positive and negative photoresist layers on silicon using high resolution x-ray reflectivity measurement. Seven samples were prepared in the clean room laboratory at the Department of Condensed Matter Physics at Masaryk University using spin coating and were measured in the local x-ray laboratory. The measured data were processed using a Fourier transform of the reflectivity curve, because the deposited layers were significantly thicker than those commonly studied using this method. I also measured the thickness of the layers by an optical reflectivity probe and a surface profiler to provide comparison. In six out of seven cases, there was an agreement within the error margins between the thickness determined by x-ray reflectivity and the optical probe. The thickenss of layers determined by the surface profiler was greater by several percent. Furthermore, I tried to simulate the measured x-ray data using a model of two  |9 eng 
650 0 7 |a depozice tenkých vrstev  |7 ph541607  |2 czenas 
650 0 7 |a Fourierova transformace  |7 ph117565  |2 czenas 
650 0 9 |a Fourier transformation  |2 eczenas 
650 0 9 |a thin film deposition  |2 eczenas 
650 0 9 |a thin film depozition  |2 eczenas 
655 7 |a diplomové práce  |7 fd132022  |2 czenas 
658 |a Fyzika  |b Fyzika kondenzovaných látek  |c PřF N-FY KOND (KOND)  |2 CZ-BrMU 
700 1 |a Meduňa, Mojmír,  |d 1974-  |7 mub2011623557  |% UČO 7898  |4 ths 
710 2 |a Masarykova univerzita.  |b Přírodovědecká fakulta.  |b Fyzikální sekce  |7 kn20020321517  |4 dgg 
856 4 1 |u http://is.muni.cz/th/175991/prif_m/ 
CAT |c 20100702  |l MUB01  |h 1037 
CAT |a KRIZOVA  |b 02  |c 20100809  |l MUB01  |h 1056 
CAT |a NOVAKOVA  |b 02  |c 20110106  |l MUB01  |h 0850 
CAT |a KOZOVA  |b 02  |c 20110208  |l MUB01  |h 0823 
CAT |c 20110627  |l MUB01  |h 1918 
CAT |c 20110627  |l MUB01  |h 2328 
CAT |a batch  |b 00  |c 20120324  |l MUB01  |h 0139 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20120510  |l MUB01  |h 0733 
CAT |c 20120610  |l MUB01  |h 2009 
CAT |a HANAV  |b 02  |c 20120711  |l MUB01  |h 1423 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20120726  |l MUB01  |h 1016 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20130304  |l MUB01  |h 1109 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20130730  |l MUB01  |h 0745 
CAT |c 20140127  |l MUB01  |h 1905 
CAT |c 20150703  |l MUB01  |h 1127 
CAT |c 20150901  |l MUB01  |h 1445 
CAT |c 20150921  |l MUB01  |h 1406 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20151226  |l MUB01  |h 0115 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20180826  |l MUB01  |h 1454 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20180826  |l MUB01  |h 1504 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190109  |l MUB01  |h 1226 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190129  |l MUB01  |h 0937 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190129  |l MUB01  |h 0941 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190129  |l MUB01  |h 0952 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20190227  |l MUB01  |h 0752 
CAT |c 20190527  |l MUB01  |h 1024 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20201030  |l MUB01  |h 0223 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 0947 
CAT |c 20210614  |l MUB01  |h 1937 
CAT |a BATCH  |b 00  |c 20210724  |l MUB01  |h 1158 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20210819  |l MUB01  |h 1726 
CAT |a POSPEL  |b 02  |c 20230808  |l MUB01  |h 2127 
LOW |a POSLANO DO SKCR  |b 2019-05-27 
994 - 1 |l MUB01  |l MUB01  |m VYSPR  |1 PRIF  |a Přírodovědecká fakulta  |2 PRSFY  |b ÚK sklad - F  |3 K-12597  |5 3145349090  |8 20100809  |a 2010  |f 71  |f Prezenční SKLAD  |q 20180809  |r 20100809  |s dar 
AVA |a SCI50  |b PRIF  |c ÚK sklad - F  |d K-12597  |e available  |t K dispozici  |f 1  |g 0  |h N  |i 1  |j PRSFY