Rtg reflexe na vrstvách fotorezistu
V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL)...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2010
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175991/prif_m/ |
| Shrnutí: | V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a přeměřoval je v rtg laboratoři ÚFKL. Naměřená data jsem zpracovával s využitím Fourierovy transformace rtg reflexní křivky, protože nanesené vrstvy byly mnohem tlustší než vrstvy běžně zkoumané touto metodou. Kromě rtg reflexe jsem pro srovnání měřil tloušťku vrstev také optickou reflexní sondou a profilometrem. U optické sondy docházelo v šesti ze sedmi případů ke shodě v rámci chyby, u profilometru vycházely tloušťky řádově o několik procent větší. Dále jsem se snažil nasimulovat naměřená data modelem dvou vrstev na substrátu, v případě pozitivních fotorezistů docházelo k jisté shodě, ovšem pro negativní byl tento model nedostačující. Z těchto simulací se nakonec po In the present work I study the thickness and surface roughness of positive and negative photoresist layers on silicon using high resolution x-ray reflectivity measurement. Seven samples were prepared in the clean room laboratory at the Department of Condensed Matter Physics at Masaryk University using spin coating and were measured in the local x-ray laboratory. The measured data were processed using a Fourier transform of the reflectivity curve, because the deposited layers were significantly thicker than those commonly studied using this method. I also measured the thickness of the layers by an optical reflectivity probe and a surface profiler to provide comparison. In six out of seven cases, there was an agreement within the error margins between the thickness determined by x-ray reflectivity and the optical probe. The thickenss of layers determined by the surface profiler was greater by several percent. Furthermore, I tried to simulate the measured x-ray data using a model of two |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Mojmír Meduňa |
| Fyzický popis: | 69 l. |