Rtg reflexe na vrstvách fotorezistu - Jíša, Jan (2010)
V předložené práci se zbývám studiem tloušťky a povrchové drsnosti vrstev pozitivních a negativních fotorezistů na křemíku pomocí rentgenové reflexe s vysokým rozlišením. Celkem sedm vzorků jsem připravoval metodou spin coating v laboratoři čistých prostorů Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a přeměřoval je v rtg laboratoři ÚFKL. Naměřená data jsem zpracovával s využitím Fourierovy transformace rtg reflexní křivky, protože nanesené vrstvy byly mnohem tlustší než vrstvy běžně zkoumané touto metodou. Kromě rtg reflexe jsem pro srovnání měřil tloušťku vrstev také optickou reflexní sondou a profilometrem. U optické sondy docházelo v šesti ze sedmi případů ke shodě v rámci chyby, u profilometru vycházely tloušťky řádově o několik procent větší. Dále jsem se snažil nasimulovat naměřená data modelem dvou vrstev na substrátu, v případě pozitivních fotorezistů docházelo k jisté shodě, ovšem pro negativní byl tento model nedostačující. Z těchto simulací se nakonec po