Povrchový plazmon
Vytvořili jsme program, který počítá odrazivost a elipsometrické úhly pro zadanou soustavu tenkých vrstev v závislosti na vlnové délce světla či úhlu dopadu, nebo z naměřeného průběhu těchto charakteristik určuje indexy lomu a tloušťky vrstev v soustavě. Dále byla prokázána existence vlivu elektrick...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2007.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/151066/prif_b/ |
| Shrnutí: | Vytvořili jsme program, který počítá odrazivost a elipsometrické úhly pro zadanou soustavu tenkých vrstev v závislosti na vlnové délce světla či úhlu dopadu, nebo z naměřeného průběhu těchto charakteristik určuje indexy lomu a tloušťky vrstev v soustavě. Dále byla prokázána existence vlivu elektrického pole na polohu minima elipsometrického úhlu $\psi$ pro soustavu s Kretschmannovou konfigurací a byla provedena diskuse možností využití napsaného programu pro modelování průběhu indexu lomu v elektrolytu. We wrote computer program which calculates reflectance and ellipsometic angles for stratified structures depending on wavelength of light or angle of incidence. Next refractive indexes and thicknesses of layers can be found from the measured ellipsomeric angles by this program. We proved the existence of effect of electric field on position of minimum of ellipsometric angle $\psi$ in the system with Kretschmann configuration and we discussed usefulness of the written program for simulation of course of the refractive index in electrolyte. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Eduard Schmidt. |
| Fyzický popis: | v, 48 l. + 2 l. (literatura). |