Modification of semiconductors and oxides in plasma generated at atmospheric pressure /

Tato disertační práce je věnována studiu modifikace polovodičů a jejich oxidů v plazmatu generovaném za atmosférického tlaku. Jako zdroj plazmatu byl použit difúzní koplanární povrchový bariérový výboj (DCSBD) buzený za atmosférického tlaku v různých pracovních plynech. Byl zkoumán vliv plazmatu na...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Skácelová, Dana (Autor práce)
Další autoři: Černák, Mirko, 1955- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Angličtina
Vydáno: 2014
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/106528/prif_d/
Obálka
Popis
Shrnutí:Tato disertační práce je věnována studiu modifikace polovodičů a jejich oxidů v plazmatu generovaném za atmosférického tlaku. Jako zdroj plazmatu byl použit difúzní koplanární povrchový bariérový výboj (DCSBD) buzený za atmosférického tlaku v různých pracovních plynech. Byl zkoumán vliv plazmatu na změnu povrchových vlastností krystalického křemíku a SiO2. V závislosti na době expozice, pracovním plynu a krystalografické orientaci křemíku byly stanoveny optimální podmínky plazmového čištění a aktivace povrchu. Pomocí optické emisní spektroskopie, digitální fotografie a počítačového modelování byly zkoumány vlastnosti plazmatu a jeho interakce s opracovávaným vzorkem. Vzhledem k filamentární povaze plazmatu buzeného za atmosférického tlaku byla zkoumána interakce plazmatu se vzorkem během opracování, vliv pracovního plynu a vlhkosti na vlastnosti plazmatu a vliv opracovávaného materiálu na vlastnosti a podobu plazmatu. Dále byla studována plazmová oxidace krystalického křemíku v DCSBD.
This thesis is dedicated to the study of modification of semiconductors and their oxides in plasma generated at atmospheric pressure. The plasma modification was carried out using Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) operating in ambient air and in various gases and their mixtures. The influence of plasma modification on the crystalline silicon surface and silicon dioxide properties were studied. The optimal conditions for plasma cleaning and surface activation were found. Plasma properties and plasma-surface interaction during surface modification were studied by means of the optical emission spectroscopy, digital photography and computer modeling. With respect to the filamentary nature of atmospheric pressure plasmas, the plasma-surface interaction during modification, effects of the operating atmosphere and the humidity on the plasma properties and an influence of the treated material on the plasma properties and appearance were investigated. Further, the plasma oxidat
Popis jednotky:Vedoucí práce: Mirko Černák
Fyzický popis:xv, 99 stran