Příprava polovodičových součástek křemíkovou technologií
V předkládané práci se věnuji technologiím a procesům, používaným v Laboratoři polovodičů - čistých prostorách pro křemíkovou technologii a mikroelektroniku na Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a dále pak strukturám a součástkám, které byly vyrobeny v této laboratoři. O...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2011
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/151246/prif_m/ |
| Shrnutí: | V předkládané práci se věnuji technologiím a procesům, používaným v Laboratoři polovodičů - čistých prostorách pro křemíkovou technologii a mikroelektroniku na Ústavu fyziky kondenzovaných látek (ÚFKL) Masarykovy univerzity a dále pak strukturám a součástkám, které byly vyrobeny v této laboratoři. Osobně jsem připravil několik křemíkových desek se třemi fotolitografickými kroky. V návaznosti na výrobu součástek jsem zprovoznil stanici hrotového měření mimo oblast čistých prostor a vytvořil jsem návod měření na této stanici. Díky tomu bylo možné rozšířit výuku v Laboratoři polovodičů o další úlohu - měření. Zprovoznění stanice umožňuje provést měření základních elektrických vlastností vyrobených součástek a vyhodnotit tak úspěšnost výroby. In the presented work I devote myself to study of technology and processes used in the Laboratory of Semiconductors - Clean room for silicon device technology and microelectronics at the Department of Condensed Matter Physics (ÚFKL) at Masaryk University. I focus on structures and components that are developed in this laboratory. Using a process with three photolitography steps I have processed a number of silicon wafers with a predefined structure. Further I have commissioned a workstation for probe measurements of devices outside of the clean room and created a measurement manual for this workstation. This allowed us to enhance teaching in the Laboratory of Semiconductors by a new task - the electrical measurement. Launching of the workstation enables the measurement of principal electrical properties (resistivity, capacity, V-A characteristics) of produced devices in order to evaluate the success of their production. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Petr Mikulík |
| Fyzický popis: | 117 l. + křemíková deska |