Advanced ellipsometric techniques and studies of low-k dielectric films

Disertace pokrývá dvě blízká témata: elipsometrickou metodologii a studium tenkých dielektrických vrstev. Tato práce zahrnovala i rekonstrukci elipsometru a vývoj potřebného softwaru pro zpracování a analýzu dat. V první části zopakujeme nezbytné teoretické základy a popíšeme základní elipsometrické...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Maršík, Přemysl (Autor práce)
Další autoři: Humlíček, Josef, 1947- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Angličtina
Vydáno: 2009.
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/13477/prif_d/
Obálka
Popis
Shrnutí:Disertace pokrývá dvě blízká témata: elipsometrickou metodologii a studium tenkých dielektrických vrstev. Tato práce zahrnovala i rekonstrukci elipsometru a vývoj potřebného softwaru pro zpracování a analýzu dat. V první části zopakujeme nezbytné teoretické základy a popíšeme základní elipsometrické konfigurace. Věnujeme se dvěma elipsometrickým konfiguracím: elipsometrii s rotačním analyzátorem (RAE) a s rotačním kompenzátorem (RCE). V případě RAE je vyvinuta kalibrační procedura pro neznámé nulové polohy polarizátoru a analyzátoru. V případě RCE jsou zformulovány elegantní rovnice pro redukci dat a navržen algoritmus pro kalibraci nulových poloh polarizátoru, analyzátoru a kompenzátoru. V měřených datech byly objeveny nežádoucí artefakty způsobené nedokonalostí kompenzátoru. Možný zdroj těchto artefaktů je diskutován a interpretace je podpořena simulacemi. Nakonec je zkoumán vliv artefaktů na kalibraci a zpracování dat a je navržen možný způsob ošetření výsledků. Druhá část práce je .
Thesis covers two related topics: ellipsometric methodology and studies of dielectric thin films. The work included reconstruction on an ellipsometric instrument and development of the necessary data acquisition and analysis software. In the first part, the necessary theoretical background is reviewed and the basic ellipsometric configurations are described. We focus on two ellipsometric configurations: the rotating analyzer (RAE) and the rotating compensator (RCE). In the case of RAE, a calibration process for unknown analyzer and polarizer offset is developed and implemented. In the case of RCE, we formulated elegant equations for data reduction and proposed algorithm for polarizer, analyzer and compensator offset calibration. We detected spurious artifacts in the actual data, related to a compensator imperfection. A possible source of the artifacts is discussed and the interpretation is validated by simulations. Finally, the impact of the artifacts on the calibration and data reduct.
Popis jednotky:Vedoucí práce: Josef Humlíček.
Fyzický popis:192 l.