Depozice a charakterizace tenkých organosilikonových a SiOx vrstev
Tato práce se zabývá charakterizací tenkých orgranosilikonových a SiOx vrstev nanášených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Vrstvy vznikaly ze směsi hexamethyldisiloxanu a kyslíku. SiOx vrstvy byly deponovány v pulzním i kontinuálním režimu vysokofrekvenčního kapacitně i indukčně vázanéh...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2009.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/211961/prif_b/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad | K-9203 | 3145346309 |