Depozice a charakterizace tenkých organosilikonových a SiOx vrstev - Fialová, Monika (2009)
Tato práce se zabývá charakterizací tenkých orgranosilikonových a SiOx vrstev nanášených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Vrstvy vznikaly ze směsi hexamethyldisiloxanu a kyslíku. SiOx vrstvy byly deponovány v pulzním i kontinuálním režimu vysokofrekvenčního kapacitně i indukčně vázaného doutnavého výboje při různých hodnotách tlaku. Organosilikonové vrstvy byly nanášeny ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji za stejných podmínek. Následně byly jejich tloušťky, optické vlastnosti a chemické složení určovány optickými metodami elipsometrie a měření odrazivosti v ultrafialové a viditelné oblasti a měření propustnosti v infračervené oblasti. Tyto vlastnosti SiOx vrstev byly porovnány pro indukčně a kapacitně vázaný výboj a různé hodnoty střídy pulzního režimu výboje. Byl ukázán rozdíl mezi SiOx vrstvami a organosilikonovými plazmovými polymery na základě jejich optických vlastností a chemické struktury.