Study of dielectric properties and mechanisms of electrical conduction of thin dielectric films prepared by PECVD
Předložená disertační práce se zabývá mechanismy vodivosti tenkých dielektrických vrstev vytvořených plazmochemickou depozicí. Jako pracovní plyny byly při depozici použity hexamethzldisiloxan a kyslík. Meřené vrstvy, tenčí než 1mikrometr, byly v sendvičové struktuře mezi dvěmi hliněnými elektrodami...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Angličtina |
| Vydáno: |
2009.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/13309/prif_d/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad | K-9370 | 3145347614 |