Vliv reaktivního plynu na depoziční rychlost tenkých vrstev na bázi bóru
Tato práce se zabývá studiem vlivu depozičních parametrů na rychlost růstu bórových vrstev deponovaných v poloprůmyslovém magnetronu Alcatel SCM 650. Do depozičního reaktoru bylo připouštěno malé množství dusíku, metanu nebo jejich směsi. Experimenty byly prováděny pro různá předpětí přiváděná na su...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2008
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/175085/prif_b/ |
Pro rezervaci/výpůjčku fyzického dokumentu se přihlaste.
| Popis | Stav | Knihovna | Sbírka | Signatura | Poznámky | Čárový kód |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
Dostupné Prezenční SKLAD |
Přírodovědecká fakulta | ÚK sklad | K-10735 | 3145342586 |