Určení fraktálové dimenze náhodně drsného povrchu difuzním rozptylem rtg záření
V předložené práci se zabývám difuzním rozptylem rtg záření na náhodně drsných površích. Při difuzním rozptylu se záření dopadající na povrch, který není ideálně hladký, rozptyluje do všech směrů. Cílem této práce je měřením intenzity rozptýleného záření zpětně určit parametry charakterizující tak...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2008.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/161929/prif_b/ |
| Shrnutí: | V předložené práci se zabývám difuzním rozptylem rtg záření na náhodně drsných površích. Při difuzním rozptylu se záření dopadající na povrch, který není ideálně hladký, rozptyluje do všech směrů. Cílem této práce je měřením intenzity rozptýleného záření zpětně určit parametry charakterizující takovýto povrch (střední kvadratickou drsnost, korelační délku, exponent drsnosti, případně tloušťku vrstvy, jejíž povrch se zkoumá) a pomocí určeného exponentu drsnosti spočítat jeho fraktálovou dimenzi. Dělala jsem měření pro jeden vzorek s vrstvou platiny na křemíkovém substrátu a pro pět vzorků s vrstvou hliníku také na křemíkovém substrátu. In the present work we study diffuse x-ray scattering from random rough surfaces. The goal of this paper is determination of the parameters that characterize random rough surfaces (root mean square, correlation length, roughness exponent and, where it was possible, thickness of the layer) by measuring intensity of the scattered radiation; and computing the fractal dimension of these surfaces by roughness exponent. I measured one sample with platinium layer on the silicon substrate and five samples with aluminium layer on the silicon substrate. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Václav Holý. |
| Fyzický popis: | 25 l. : il. |