Studium reaktivního magnetronového naprašování optickou emisní spektroskopií
Tato práce se věnuje studiu reaktivního magnetronového naprašování pomocí optické emisní spektroskopie. V první části jsou vyloženy základní fyzikální principy naprašování a základní metody diagnostiky plazmatu včetně optické emisní spektroskopie. Dále je popsán Bergův model. Výsledky sestaveného pr...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2007.
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/151253/prif_b/ |
| Shrnutí: | Tato práce se věnuje studiu reaktivního magnetronového naprašování pomocí optické emisní spektroskopie. V první části jsou vyloženy základní fyzikální principy naprašování a základní metody diagnostiky plazmatu včetně optické emisní spektroskopie. Dále je popsán Bergův model. Výsledky sestaveného programu jsou diskutovány. Byl studován efekt vybraných parametrů na hysterezní jev. Je popsán způsob měření hystereze. Byly určeny optimální pracovní podmínky pro měření. This work dedicates itself to study of reactive magnetron sputtering using optical emission spectroscopy. The basic principles of sputtering and basic plasma diagnostic methods including optical emission spectroscopy are presented in first section. Next, the Berg model is described. The results of created programme are discussed. The effect of selected parameters on hysteresis effect is studied. The way of experimental measurement of hysteresis effect is described. The optimal working conditions for measurement are determined. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Petr Vašina. |
| Fyzický popis: | 41 l. |