Přeskočit na obsah
Váš účet
Odhlásit
Přihlášení
English
Informace o aktuálním provozu knihoven sledujte na jejich
stránkách
.
Vše
Název
Autor
Téma
ISBN/ISSN
Signatura
Čárový kód
Systémové číslo
Hledat
Pokročilé vyhledávání
Pokročilé vyhledávání
Filtr e-prezenčka
Plasma diagnostics focused on...
Popis
Citace.com
×
Citace.com
Poslat emailem
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Exportovat do MARC
Exportovat do MARCXML
Exportovat do RDF
Exportovat do BibTeX
Exportovat do RIS
Do oblíbených
Plasma diagnostics focused on new magnetron sputtering devices for thin film deposition
Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor:
Vašina, Petr, 1979-
(Autor práce)
Další autoři:
Tálský, Antonín, 1932-
(Vedoucí práce)
Typ dokumentu:
VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:
Angličtina
Vydáno:
2005.
Témata:
fyzika plazmatu
tenké vrstvy
plasma physics
thin films
disertace
Jednotky
Popis
MARC21
Popis
Popis jednotky:
Vedoucí práce: Antonín Tálský.
Fyzický popis:
139 s.
Podobné jednotky
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions /
Vydáno: (1990)
Creation of thin oxide films in a microwave oxygen plasma /
Autor: Bárdoš, Ladislav, 1947-
Vydáno: (1983)
Principles of plasma discharges and materials processing /
Autor: Lieberman, M. A. 1940-, a další
Vydáno: (1994)
Cathodic arcs : from fractal spots to energetic condensation /
Autor: Anders, André
Vydáno: (2010)
Plasma diagnostic techniques /
Vydáno: (1965)
×
Načítá se...