Přeskočit na obsah
Váš účet
Odhlásit
Přihlášení
English
Informace o aktuálním provozu knihoven sledujte na jejich
stránkách
.
Vše
Název
Autor
Téma
ISBN/ISSN
Signatura
Čárový kód
Systémové číslo
Hledat
Pokročilé vyhledávání
Pokročilé vyhledávání
Filtr e-prezenčka
Plazmová depozice tenkých vrst...
Popis
Citace.com
×
Citace.com
Poslat emailem
Exportovat záznam
Exportovat do RefWorks
Exportovat do EndNoteWeb
Exportovat do EndNote
Exportovat do MARC
Exportovat do MARCXML
Exportovat do RDF
Exportovat do BibTeX
Exportovat do RIS
Do oblíbených
Plazmová depozice tenkých vrstev DLC:SiOx a jejich charakterizace
Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor:
Valtr, Miroslav, 1979-
(Autor práce)
Typ dokumentu:
VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:
Čeština
Vydáno:
2003.
Témata:
depozice tenkých vrstev
plazma (fyzika)
tenké vrstvy
plasma (ionized gases)
thin film deposition
thin films
diplomové práce
master's theses
Jednotky
Popis
MARC21
Popis
Fyzický popis:
69 l.
Podobné jednotky
Plazmochemická depozice nanostrukturovaných diamantupodobných tenkých vrstev
Autor: Novotný, Tomáš
Vydáno: (2010)
Plazmochemická depozice DLC vrstev s příměsí křemíku
Autor: Brzobohatý, Oto
Vydáno: (2001)
Fyzika tenkých vrstev /
Autor: Eckertová, Ludmila, 1924-2009
Vydáno: (1973)
Studium depozice hydrofilních tenkých vrstev metodou PECVD za atmosférického tlaku /
Autor: Štipl, Michal
Vydáno: (2017)
Depozice dusíkem dopovaných organosilikonových tenkých vrstev pomocí plazmatu radiofrekvenčního doutnavého výboje /
Autor: Přibyl, Roman
Vydáno: (2018)
×
Načítá se...