Studium polovodičových vrstev s kvantovými tečkami pomocí rtg metod

Tato práce se zabývá studiem polovodičových vrstev a polovodičových vrstev s kvantovými tečkami pomocí RTG reflektometrie a RTG difraktometrie. Zaměřuje se zejména na vyšetřování tloušťek polovodičových monovrstev a multivrstev, zjišťování mřížkových parametrů materiálů vrstev a také na určování slo...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Heczko, Milan (Autor práce)
Další autoři: Caha, Ondřej, 1979- (Vedoucí práce)
Typ dokumentu: VŠ práce nebo rukopis
Jazyk:Čeština
Vydáno: 2011
Témata:
On-line přístup:http://is.muni.cz/th/324109/prif_b/
Obálka
Popis
Shrnutí:Tato práce se zabývá studiem polovodičových vrstev a polovodičových vrstev s kvantovými tečkami pomocí RTG reflektometrie a RTG difraktometrie. Zaměřuje se zejména na vyšetřování tloušťek polovodičových monovrstev a multivrstev, zjišťování mřížkových parametrů materiálů vrstev a také na určování složení ternárních sloučenin. Zkoumány jsou zejména sloučeniny InxGa1-xAs a GaAs1-xSbx na GaAs substrátech. Získané výsledky jsou porovávány s původními odhady a předpoklady výrobců.
This thesis studies semiconductor layers and semiconductor layers with quantum dots by x-ray reflectometry and x-ray difractometry. It focuses in particular on the investigation of thicknesses of semiconductor monolayers and multilayers, the lattice parameters of the survey materials of layers and determining the composition of ternary compounds. Investigated compounds are particulary InxGa1-xAs and GaAs1-xSbx on GaAs substrates. The obtained results are compared with original estimates by manufacturers.
Popis jednotky:Vedoucí práce: Ondřej Caha
Fyzický popis:60 l.