Studium změny chování reaktivního magnetronového naprašování po přidání vodíku - Nekvapil, Jakub (2012)
Tato bakalářská práce se věnuje studiu reaktivního magnetronového naprašování za připouštění směsí Ar+O2, Ar+H2 a Ar+O2+H2. V první části je popsán princip metody magnetronového naprašování a zejména fyzikální procesy ovlivňující proces reaktivního magnetronového naprašování. V praktické části je zkoumáno hysterezní chování depozičního procesu samostatně pro každou z prvních dvou zmíněných směsí. Bylo ověřeno, že vodík i kyslík vystupují v procesu jako reaktivní plyny. Výsledků je použito při popisu změny chování systému za připouštění směsi Ar+O2+H2. Proces depozice titanoxidové vrstvy v této směsi vykazuje parametry depozice za přítomnosti dvou reaktivních plynů.