Plazmochemická depozice tenkých vrstev a jejich optické vlastnosti v UV až IR oblasti
Během této práce byly nanášeny tenké vrstvy ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji ze směsi hexametyldisiloxanu a kyslíku. Dále byly měřeny optické vlastnosti připravených vrstev. Za tímto účelem byla použita spektroskopická elipsometrie a odrazivost v oblasti ultrafialového (UV) až viditelného zářen...
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Další autoři: | |
| Typ dokumentu: | VŠ práce nebo rukopis |
| Jazyk: | Čeština |
| Vydáno: |
2011
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://is.muni.cz/th/324363/prif_b/ |
| Shrnutí: | Během této práce byly nanášeny tenké vrstvy ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji ze směsi hexametyldisiloxanu a kyslíku. Dále byly měřeny optické vlastnosti připravených vrstev. Za tímto účelem byla použita spektroskopická elipsometrie a odrazivost v oblasti ultrafialového (UV) až viditelného záření a měření transmise v infračervené oblasti. Byly zkoumány vlivy depozičních podmínek na optické vlastnosti, rychlost depozice a chemické složení vrstev. In this thesis, thin films were deposited from the mixture of oxygen and hexamethyldisiloxane in radio frequency glow discharge. The optical properties of the deposited films were measured by spectroscopic ellipsometry and reflectance in ultraviolet and visible range. Chemical structure of the films was studied by transmittance in infrared range. The influence of deposition parameters for optical constants, deposition speed and chemical composition of film were examined. |
|---|---|
| Popis jednotky: | Vedoucí práce: Lenka Zajíčková |
| Fyzický popis: | 28 l. |